中性鍍錫工藝能在接近中性的鍍錫鍍液中影響錫離子的配位從而解決小工件的粘片現(xiàn)象，它專為片式元件而設計(MLCC、MLCI、MLCR)的，能夠在非常寬廣的電流密度范圍內(nèi)獲得平滑均勻的半光澤純錫鍍層。

中性鍍錫工藝不傷產(chǎn)品底材，能夠?qū)μ沾审w的傷害減至最低。

中性鍍錫工藝適用于滾鍍工藝，開缸方便、維護簡單。

中性鍍錫工藝擁有極佳的焊錫性能和出色的外觀。

中性鍍錫工藝鍍層均勻、結(jié)晶細膩。

中性鍍錫工藝所用的材料均對人體無害，不會有環(huán)境污染，且中性鍍液不會有大量起泡的問題，員工操作時無需進行嚴格的防護措施。

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