電鍍廠在使用堿性鍍鋅光亮劑時，如果想用電解法去除異金屬雜質，控制多大的電流密度為好呢？

原則上要按照電鍍時雜質起不良影響的電流密度范圍來確定。這是因為各種雜質離子和欲鍍金屬離子的還原電位是不同的，有的離子析出電位較正，主要在低電流密度區(qū)析出，有的離子析出電位較負，主要在高電流密度區(qū)析出。

根據這個原則，在使用堿性鍍鋅光亮劑的電鍍過程中，如果雜質的影響反映在低電流密度區(qū)，那么電解處理時應控制在低電流密度下進行，假使雜質的影響反映在高電流密度區(qū)，則應選用高電流密度進行電解

如果雜質在高電流密度區(qū)和低電流密度區(qū)都有影響，那么可先用高電流密度電解處理一段時間，然后再改用低電流密度電解處理，直至鍍液恢復正常。

在一般情況下，為了減少鍍液中主要放電金屬離子的沉積，凡是用低電流密度電解可以去除的雜質，都采用低電流密度電解。在電鍍堿鋅生產中，多數雜質的影響反映在低電流密度區(qū)，所以比格萊的工程師通常會建議電鍍廠，將電解處理的陰極電流密度控制在0.1~0.2 A/dm²之間。

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