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使用堿銅光亮劑時(shí),為啥沉積慢、深鍍能力差?

瀏覽次數(shù):1 作者: 編輯: 來源: 廣東比格萊科技 發(fā)布日期: 2025.08.12
信息摘要:
 近期,云南某電鍍廠連續(xù)出現(xiàn)故障,在使用堿銅光亮劑時(shí),遇到比如沉積慢、深鍍能力差,那么是什么原因造成的?

近期,云南某電鍍廠連續(xù)出現(xiàn)故障,在使用堿銅光亮劑時(shí),遇到比如沉積慢、深鍍能力差,那么是什么原因造成的?

陰極電流密度太小

電鍍生產(chǎn)中,應(yīng)該不造成鍍層燒焦的前提下,盡可能開大陰極電流密度,這樣有助于提高鍍層的沉積速度,進(jìn)而提高勞動(dòng)生產(chǎn)效率。經(jīng)過調(diào)查,我們發(fā)現(xiàn)是陰極電流密度太小造成的,則會(huì)影響沉積速度,還會(huì)影響低區(qū)的鍍層沉積情況。

處理方法

a.檢查并校核電流表的準(zhǔn)確度。

b.準(zhǔn)確測量受鍍工件的表面積,合理設(shè)定電流密度,不可過大或過小。 堿銅光亮劑

在使用堿銅光亮劑時(shí),比格萊工程師建議電鍍廠盡量選擇穩(wěn)流型整流器。鋼鐵件、銅及銅合金、鋅合金的預(yù)鍍銅采用2倍電流密度沖擊,保證深凹處能鍍上銅,最大設(shè)置的DK2.6A/dm2,沖擊鍍1min,然后恢復(fù)正常電流密度Dk=1.0~1.3A/dm2,施鍍至所需厚度的鍍層。

鋁合金件預(yù)鍍用的電流密度及時(shí)間的設(shè)置:Dk=2.6A/dm2,1min;然后正常鍍,Dk=1.3A/dm2,3min

鉛及鉛合金的工件,預(yù)鍍層應(yīng)有足夠的厚度(大于2.5μm),先使用低電流密度(小于DK的一半),以不產(chǎn)生氣體為準(zhǔn),鍍1~2min后,再轉(zhuǎn)為正常電流密度(DK約為1.0~1.3A/dm2),電鍍至所需的鍍層厚度。

對(duì)以上內(nèi)容有疑問?或者想了解更多關(guān)于堿性鍍銅光亮劑 的工藝知識(shí)?

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