各位朋友好，關(guān)于這個系列有段時間沒更新了，現(xiàn)在夏天快到了，我們就繼續(xù)來更新吧。使用硬鉻添加劑時，鍍層出現(xiàn)針孔，除了之前我們說過的三價鉻含量過高，金屬雜質(zhì)含量過高，以及鉻酐和H₂SO₄比例不合理之外，還有一種原因。

什么原因呀？那就是操作條件控制不當(dāng)，鍍液溫度過低，槽液粘度過大，陰極上產(chǎn)生的氫氣泡易滯留，難逸出；操作電流密度過大或槽液溫度過低，在陰極上得到的是β-Cr，β-Cr層不太穩(wěn)定，容易在轉(zhuǎn)變成 α-Cr的過程中產(chǎn)生裂紋，當(dāng)裂紋寬度發(fā)展到一定程度時，其內(nèi)部不會有鉻的沉積，這樣形成了針孔故障。

要得到合格的硬鉻鍍層，必須嚴格控制好陰極電流密度和槽液溫度。電鍍開始時采用階梯式給電方式，即先在經(jīng)活化處理的零件施加上正常電流密度小幾倍的陰極小電流電鍍3~5min。然后，逐步升高電流密度直至正常值，續(xù)鍍至厚度合格為止。

這里插句題外話，一開始的小電流電鍍3-5min，是不是又很眼熟？是的，這個就是前面說過的小電流電解法。有經(jīng)驗的操作者，每次在正式生產(chǎn)前，總是先電解一段時間，然后開始電鍍產(chǎn)品。

另外，陰極電流密度與槽液溫度存在一種匹配關(guān)系，一般情況下，槽液溫度高，可相應(yīng)地采用高電流密度施鍍，有利于直接形成a-Cr，避免了β-Cr向α-Cr轉(zhuǎn)變的過程；槽液溫度低，不宜采用高電流密度施鍍，否則易形成針孔。

這里還需要注意一點，為降低硬鉻鍍層的脆性和去除基體金屬的氫脆，鍍硬鉻后零件必須進行除氫處理，除氫時控制溫度在200±5℃內(nèi)，保溫4h，然后空冷至室溫，這樣既保證除氫效果，又避免后續(xù)拋磨工序因氫脆引起的半針孔。

如果您要問我，什么樣的硬鉻添加劑是比較好的，我會推薦比格萊的硬鉻添加劑Cr-2，因為其陰極電流效率高，而且不含氟化物，對基體的低電流密度區(qū)不產(chǎn)生腐蝕，對陽極無腐蝕。對電鍍廠的鍍鉻生產(chǎn)有著很大的幫助。

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